選型參數功率繼電器FUJI，EA32AC
攝影加工涉及兩個基本方向，即手工處理和自動處理。
在人工處理的情況下，加工化學品被放置在托盤和在這個過程中，
當托盤以反復的方式傾斜以引起反應時，就會引入薄膜，
或者將加工化學品放置在一個容器中，薄膜被懸浮起來。
從而使其能夠在溶液中再次移動并在溶液中再次移動。
具有托盤、溶液槽、懸掛器等手動加工物,設備所需的E。
在這種情況下，所使用的設備與化學品直接接觸，
因此必須由不被這種騙局腐蝕的材料制成。
除了這些項目外，還需要設備來控制處理溶液的溫度。
在這個類別中，某些類型的設備被直接放置在過程中。
解決方案，如加熱器和在其他情況下，使用恒溫浴缸是中心。
由于照相處理本身的穩定性增加，自動干式機加工正得到更廣泛的接受，
更不用說處理量的增加了。處理步驟中的速度和縮寫。
這些處理器中的大多數都是相互結合或同時驅動的滾輪。
在這些類型的處理器中使用的處理步驟是開發的。
NT、FIX、清洗和干燥由四個程序組成，并且其中排列有許多輥單元。
所有這些輥以非常相同的速度被驅動,因此,當薄膜在它們之間被傳送時,
它也被處理。通常在自動處理器中還包括用于PRO的溫度控制單元處理溶液、
干燥器加熱器和風扇以及自動溶液補充裝置。
有關更多詳細信息，請參見第四章“自動處理”。
照相圖像的黑化程度被稱為攝影密度，并且存在兩種密度。
一種是透射密度和其它反射密度。
第(次)種密度是用來表示膠片中攝影圖像的密度。
攝影圖像的透射密度表示為其不透明度的對數。
讓它變得更強大。落在膜表面(入射光)上的光的ity是I0，
并且在其穿過膜之后的光的強度是i，并且下面的等式將保持。
X射線膠片的性能可以用多種方式表示.使用廣泛的是特征曲線。
x射線膠片的特征曲線是指在g上產生的曲線。
繪制圖像密度與X射線或伽馬射線曝光之間的相關性的Raph，
這是從處理中導出的，如圖所示。10.這條特性曲線提供了信息。
在X射線膠片的速度、對比度（平均梯度）和霧中。
由于難以測量X射線和伽馬射線的優良強度，確定了相對曝光，
并且它的對數Ex沿曲線圖的水平軸繪制按對數相對曝光壓制的密度，
該密度沿垂直軸以與水平軸上的間隔相等的間隔布置。
特性曲線的形狀及其在圖形上的位置與一種類型的薄膜或輻射源不同。
此外，通過變化的處理來觀察曲線中的變化，
與是否存在強化屏幕有關的條件。
“感測”一詞是指建立曝光密度關系的精 確數值的科學，
以及確定膠片速度、對比度、霧等參數的科學。由特征曲線導出。
在處理過的膜的未曝光區域中出現僅僅是顯著的密度，并且該密度被稱為霧。
曝光不足的薄膜的密度一般在本節所指出的范圍內。
適當曝光的膠片的密度一般在范圍內，
主要由直線段和趾部指示.對比與直線段的關系為密切。
過度曝光的膜通常具有主要由肩部和直線部分指示的范圍內的密度。
密度甚至可以在增加在由肩部指示的暴露之上時再次下降。
該部分不包括在用于形成攝影圖像的曝光中。
在射線照相中使用的速度一詞是指X射線膠片對X射線或伽馬射線的敏感性.
攝影材料的速度通常用曝光的倒數(見注)來表示。
URE是根據其特征曲線確定的，在給定的條件下，開發后得到了一定的密度。
由于相對曝光用于繪制特征曲線oFx射線膠片，
從它導出的速度也由相對值表示，因此被稱為相對速度。
速度標尺如此布置，使得速度隨著曝光的增加而減小，
并且隨著曝光的減小而增加。因此，速度由曝光的倒數表示，
圖13顯示了四種類型的膜A、B、C和D的特性曲線，
它們暴露于X射線并在給定條件下進行處理。
通過鋪設密度繪制此圖形。垂直軸和沿水平軸的相對曝光以相等的間隔開始，
從水平軸上的左側0.0開始。
通過在FOG-PLUS-BA上方定位2.0的密度點特征曲線上的Se密度a直線可由此點向下畫成水平線.
與相對曝光的四種類型的薄膜，相對反對數。
通過允許一種類型的膠片，例如A，以100的速度成為參考膠片，
其他類型的膠片的相對速度可以通過參考獲得。
100的Ce速度和從水平軸讀取的反對數的反比。
表3顯示了這四種膠片的相對速度。
薄膜可以具有輕微的密度，而不暴露于可見光、X射線或伽馬射線。
當薄膜的乳液中的鹵化銀部分降低并且為c時，產生該密度。
已撥開的霧。當超過某一限度的霧對照相圖像產生不利影響時，
必須盡可能抑制它。霧有許多原因，包括薄膜儲存條件。
條件、開發人員的組成、開發條件和處理條件。
由光和壓力引起的可下垂密度也稱為霧。
e引起的不需要的密度暴露在安全光線下
(即使一種不影響敏感物質的淺色在合理的時間范圍內作為安全光)被稱為安全光霧。
黃牛當高壓作用在薄膜上時產生的密度稱為壓力霧。
所有這些由不理想的外部因素產生的霧都會對光子
晶體產生不利的影響。圖形圖像，因此必須始終防止。
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