富士超聲波流量計(jì)使用注意，EA202B
成膜后的膜將上述步驟的處理液送入固定槽中，
使定影液及時(shí)排出。在膜上承載的處理溶液的量對(duì)固定器溶液的強(qiáng)度有顯著影響。
將降解較小的載體-在較少的固定器溶液中。如果要徹底排空薄膜，
則必須將其保持在溶膠中長(zhǎng)期以來，這種暴露于空氣中帶來了變色的風(fēng)險(xiǎn)。
不允許使用任何處理溶液潤(rùn)濕的薄膜保持與空氣接觸。超過10秒。
當(dāng)薄膜被一次又一次地從顯影液中直接轉(zhuǎn)移到固定槽中，
或者在不使用停止浴的情況下沖洗和轉(zhuǎn)移到固定槽中時(shí)，硬化卡波克。
固定液的密度迅速降低，使薄膜容易劃傷或比正常干燥時(shí)間更長(zhǎng)，
清洗后需要干燥時(shí)間。此外，在這些條件下，
開發(fā)可能會(huì)甚至在固定槽中，導(dǎo)致二向色霧]和不均勻的固定。
在這種情況下，即使在已經(jīng)發(fā)生完全耗盡之前，也需要更換固定器溶液。
這種霧很可能是由于固定浴中有顯影劑的痕跡而產(chǎn)生的。
透過光線觀察，帶有二色霧的膠片有黃色到褐色的污漬。
斯泰用反射光觀察，NS具有藍(lán)色、綠色或黃色的金屬光澤。
需要徹底洗滌以除去處理溶液和復(fù)雜的銀鹽(復(fù)雜的硫酸銀化合物)。
通常情況下，在F之后可能沒有足夠的護(hù)理。
如果允許這種鹽在洗滌后保留，
它們將逐漸分解和攻擊圖像，使其褪色。
與乳劑接觸的水流動(dòng)越快，不想要的化合物被去除越快，洗滌時(shí)間越短。
洗水溫度好略低于固定劑的溫度，以避免乳液中的不利條件。
然而，在實(shí)踐中，需要相當(dāng)大的能力來保持對(duì)洗水的充分控制。
溫度。理想情況下，顯影劑溫度應(yīng)為20°C（68°F），
清洗水溫15至17°C（59.0至62.6°F），但水溫隨季節(jié)變化較大。
(變更)在夏季季節(jié)，從30°C/86°F到冬季10°C/59°F遠(yuǎn)低于10°C/59°F，這并不常見。)
如果存在這種變化，則別無選擇，
只能進(jìn)行輕微的更改在停止槽和固定器溫度中有利于清洗水溫，如在表5中的示例所示。
處理后的X光膠片應(yīng)在20°C(68°F)的自來水中沖洗50 min以上。
當(dāng)使用洗滌促進(jìn)劑富士qw時(shí)，應(yīng)按以下步驟沖洗x光膠片程序。
固定X光膠片后，在自來水中沖洗30秒。
然后在QW溶液中浸泡1到2分鐘，然后在自來水中洗5分鐘。
圖26顯示了洗后的洗滌時(shí)間和剩余硫代硫酸鹽的數(shù)量，有和沒有QW工藝順序。
膠卷應(yīng)在清洗后立即干燥。水的條紋和水滴附著在薄膜表面上，
如果它們?cè)诟稍锴安槐灰瞥?，下面的區(qū)域會(huì)比薄膜表面的干燥速度慢。
周圍區(qū)域發(fā)生變化，從而使銀像密度發(fā)生變化，并產(chǎn)生斑點(diǎn)。
這種不均勻的干燥可以通過用海綿輕輕擦拭或浸泡在溶液中來防止。
f富士滴灌潤(rùn)濕劑。(以1：200的比例稀釋水滴，
在干燥前將洗過的薄膜浸泡約30秒。)
強(qiáng)制空氣干燥機(jī)應(yīng)該有在進(jìn)氣風(fēng)扇位置上的過濾器，
裝置在薄膜上提供45至50°C（104至122°F）的熱空氣運(yùn)動(dòng)。
應(yīng)注意確保一個(gè)溶液與另一個(gè)溶液的溫度相差不超過±5°C(±9°F)。
如果它的不同程度大于t的這個(gè)微分膨脹乳化液會(huì)從一個(gè)區(qū)域到另一個(gè)區(qū)域形成網(wǎng)狀。
“對(duì)比”一詞是指X光片的大密度和小密度之間的差異。
它也可以指圖像中密度變化的程度。
無線電波的對(duì)比ph是通過電影對(duì)比和主題對(duì)比的結(jié)合來表達(dá)的。
影響X光片圖像清晰度的因素列于表7。
銀粒隨著千伏電壓的增加而變粗，而熒光屏?xí)r這種趨勢(shì)更為明顯。
都是用的。在制作用于詳細(xì)檢查標(biāo)本的X光片時(shí)，應(yīng)適當(dāng)考慮這些因素。
為了無損檢測(cè)使用射線照片的密度，必須保持在固定水平。
非屏蔽型薄膜中的定義隨著密度的增加而增加。
根據(jù)相對(duì)于輻射源、樣本和薄膜的位置的幾何布置，
射線照片中的圖像可以被放大和扭曲。圖像MAG的原因硅化和變形列于表8中。
未曝光的X射線膜容易且不利地受到化學(xué)品、熱、濕氣、機(jī)械壓力、
可見光和輻射(例如需要大護(hù)理的X射線和伽馬射線)的不利影響。
ST將用于此類薄膜的存儲(chǔ)和處理以及存儲(chǔ)位置的選擇。
工業(yè)X光片一般存放在輻射源附近，以滿足預(yù)期的目的，
但在這方面，對(duì)放射性射線的敏感性比其他類型的敏感材料。
在儲(chǔ)存未曝光的工業(yè)X光膠片時(shí)，重要的是提供足夠的輻射防護(hù)。
鉛內(nèi)襯容器當(dāng)未曝光膠片和裝載的暗盒要保持在X射線室中時(shí)使用。
暗室必須通過隔墻與X射線或輻射源室隔開，隔墻可以完全舒縮。不發(fā)出輻射。
由于工業(yè)X射線膠片對(duì)熱和濕度非常敏感，所以應(yīng)該選擇陰涼干燥的地方儲(chǔ)存。
儲(chǔ)存溫度應(yīng)保持在10至15°C(50至59°F)左右。
富士印度河試用X光膠卷被封存在交錯(cuò)的紙夾中，
并密封在光密的防潮信封中，這樣在從這些膠卷中取出之前，它們是相對(duì)安全的。
奧佩。然而，一旦膜被從信封上移除，乳劑就會(huì)吸收水分，
直到它與周圍空氣的含水量達(dá)到平衡為止。
In相對(duì)濕度工業(yè)X射線膠片的處理應(yīng)當(dāng)從60％到70％。
另一方面，過度干燥不適用于工業(yè)X射線膜的存儲(chǔ)，
因?yàn)樵谶@樣的位置膜可能變成炭帶靜電導(dǎo)致X線片上的痕跡。
從信封中取出的X光膜應(yīng)包裹在空氣緊密的乙烯基布中，并保存在冷藏下，以便去除。
d使用前幾個(gè)小時(shí)，允許站立直到達(dá)到室溫的平衡。
如果這類薄膜的溫度與周圍空氣的溫度不同，
則可能會(huì)產(chǎn)生濕氣。在膜表面上致密。
當(dāng)暴露于拋光金屬表面、涂漆表面、稀釋劑、
過氧化氫、煤氣、硫化氫、氨氣、汞蒸汽、福爾馬林、ENG時(shí)，
工業(yè)X射線膠片可能會(huì)產(chǎn)生霧。包括廢氣、乙炔和TerpenE。
應(yīng)提供防止這種霧的發(fā)生，這種霧被稱為假攝影效果。
當(dāng)強(qiáng)烈摩擦?xí)r，乳膠層會(huì)被劃傷，因此在處理后的X光片中會(huì)出現(xiàn)黑色條紋。
在收音機(jī)里可以看到一個(gè)看上去像新月的影子，通常被稱為扭結(jié)標(biāo)記。
膠片折疊時(shí)的圖形。一般來說，曝光前膠片上的折痕似乎比周圍區(qū)域的密度要低，
而曝光后的折痕似乎有一個(gè)高密度。Gher密度大于周圍地區(qū)。
機(jī)械壓力也同樣影響薄膜?？杀苊庖蚪佑|受加工化學(xué)品污染的手指而造成的痕跡。
戴著薄而柔軟的棉手套。應(yīng)避免使用合成纖維制成的手套或合成纖維與棉混紡的手套，
因?yàn)樗鼈兛赡軙?huì)造成靜電痕跡出現(xiàn)在上面。
富士超聲波流量計(jì)使用注意，EA202B
